ASML预计2025 年量产高数值孔径极紫外光刻机
2019-06-30 荷兰
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据ETNews网站6月30日消息，荷兰艾司摩尔（ASML）公司正积极开发下一代高数值孔径EUV（极紫外光刻）设备，预计2025年正式量产。ASML下一代EUV设备通过提升透镜解析度，将解析度和微影叠对能力比现行EUV 系统提升70%，不仅能提高生产效率、提升良品率，还可以降低生产成本，满足半导体行业对低纳米制程工艺的要求。
http://www.etnews.com/20190628000089
