据新智元12月10日消息，在欧洲微电子研究中心（IMEC）近期举办的一次论坛活动上，IMEC首席执行官兼总裁Luc Van den hove表示，在与荷兰ASML公司的合作下，开发更加先进的光刻机已经取得了进展。IMEC公布了3nm及以下光刻工艺的技术细节，并表明ASML公司已经明确了3nm、2nm、1.5nm、1nm甚至1nm以下的芯片制程技术路线图。而日本、美国等国的许多半导体公司出于成本考虑，已经停止了光刻工艺小型化的研究。IMEC和ASML的合作或将进一步推动超精细芯片制程的研发。
https://mp.weixin.qq.com/s/LE8UiaV4vc4qWUE2i2iF9w