据TechXplore网4月21日消息，美国英特尔公司和荷兰代尔夫特理工大学研究人员成功在英特尔半导体制造工厂使用先进工艺，在硅/二氧化硅界面上创造了量子比特。这一成果建立在全光刻工艺和全工业处理工艺上，取代了使用电子束刻蚀和传统剥离工艺的制造过程，表明使用现有的制造工艺大规模创造统一且可靠的量子比特是具备可能性的。

消息来源：https://techxplore.com/news/2022-04-fabricating-qubits-advanced-semiconductor.html