据DoNews网10月15日消息，日本佳能（Canon）公司近日推出芯片生产设备FPA-1200NZ2C，可用于制造5nm芯片。佳能表示，这套生产设备没有采取光刻的制造工艺，而是采取了一种名为纳米压印（NIL）的技术，直接通过压印形成电路图案。NIL技术的微影制程技术复杂度较低，耗电量可压低至极紫外（EUV）光刻技术的10%，且设备投资最低仅有EUV设备的40%。佳能表示会继续改进这套系统，未来力争用于生产2nm芯片。

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