据路透社12月21日消息，荷兰半导体设备制造商ASML将向英特尔公司交付首款新型高数值孔径（High NA）极紫外光刻机，每台机器的成本将超过3亿美元。这些新机器预计将帮助计算机芯片制造商生产更小、更快的半导体芯片，将在2026年或2027年开始用于商业制造。后续，ASML将陆续向台积电、三星、SK 海力士和美光等其他芯片制造商供应最新型光刻机。

消息来源：https://www.reuters.com/technology/asml-ships-first-high-na-lithography-system-intel-statement-2023-12-21/