据《科技日报》5月16日报道，清华大学成功自主研发出光刻机双工件台系统，掌握了光刻机核心技术。光刻机是制造大规模集成电路的核心装备，用于将设计电路刻入基底材料，需达到数十纳米甚至更精细的分辨率，工件台是光刻机两大核心部件之一。该成果打破了国外技术垄断，使中国成为少数能研制光刻机双工件台这一超精密机械与测控技术领域尖端系统的国家之一。

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