据财联社11月7日消息，美国明尼苏达大学双城分校的研究人员开发出一种可在超薄材料中有序制造并调控被称为“扩展缺陷”的微观结构的方法。这类缺陷能显著改变材料性能，有望推动下一代纳米技术发展。研究人员通过在基底表面预先制作微小图案，再于其上生长薄膜，成功引导材料内部形成高密度缺陷。实验显示，图案化区域的缺陷密度可比无图案区域高出1000倍。该方法虽以钙钛矿氧化物为主要研究对象，但具备普适性，未来或应用于电子设备中，利用缺陷实现全新功能。
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