比利时利用极紫外光刻机实现纳米孔全晶圆级制造,推动分子传感技术发展

2025-12-26  比利时 来源:CNBETA网 作者:张芮晴 领域:生物

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据cnBeta网12月25日消息,比利时微电子研究中心(IMEC)首次成功利用荷兰阿斯麦(ASML)的EUV光刻设备,在300毫米晶圆上实现了固态纳米孔的晶圆级制造。该方法的突破在于利用EUV技术确保孔径高度一致,且这种方法与CMOS兼容,意味着生物传感器可像生产芯片一样大规模制造,为高通量生物传感器阵列研发开辟新道路。

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