据中国新材料网2月20日消息，澳大利亚皇家墨尔本理工大学（RMIT）的科研人员与莫纳什大学、北卡罗来纳州立大学和英联邦科学与工业研究组织（CSIRO）联合开发出液态金属纳米印刷技术。该技术可以打造出原子厚度的集成电路，且产生的大型电子晶片可以达到1.5纳米的深度。在传统的芯片制造技术中，最大的限制之一就是无法在表面积较大的情况下打造原子级别的超薄均匀半导体表面，液态金属纳米印刷技术则为这一限制找到了突破。未来，利用该技术可生产出效率更高、价格更低的芯片，同时促进柔性电子产品的发展。
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